国产刻蚀机新突破！7nm发挥重要作用 北方华创(Naura)官方宣布
北方华创(Naura)官方宣布，国产ICP等离子刻蚀机第1000腔交付仪式近日在北京亦庄基地举行，刻蚀NAURA刻蚀机研发团队见证了这一历史性时刻。机新北方华创表示，突破这不仅是发挥公司发展征程中的重要里程碑，更是重作国产刻蚀机在历经了20年自主创新后得到客户广泛认可的重要标志，未来会持续在等离子刻蚀ICP技术领域寻求更多突破。国产
北方华创科技集团股份有限公司成立于2001年，刻蚀由北京七星华创电子股份有限公司、机新北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司战略重组而成，突破是发挥目前国内集成电路高端工艺装备的先进企业。北方华创成立后就开始组建团队钻研刻蚀技术，重作2004年第一台设备成功起辉，国产2005年第一台8英寸ICP刻蚀机在客户端上线，刻蚀并于2007年获得国家科学技术进步二等奖。机新目前，北方华创的刻蚀设备已经覆盖集成电路、林美辅助LED、先进封装、功率半导体、MEMS微机电系统、化合物半导体、硅基微显、分析仪器、功率器件、光通信器件等多个领域，硅刻蚀机已突破14nm技术，进入主流芯片代工厂。其中，12英寸ICP刻蚀机在实现客户端28nm国产化替代，并在14/7nm SADP/SAQP、先进存储器、3D TSV等工艺应用中发挥着重要作用。
所谓等离子干法刻蚀，就是利用等离子体进行薄膜微细加工的技术，具有良好的各向异性、工艺可控性，游戏辅助网广泛应用于微电子产品制造领域。在典型的干法刻蚀工艺过程中，一种或多种气体原子或分子混合于反应腔室中，在外部能量作用下(如射频、微波等)形成等离子体。另外，很多人可能分不清光刻机、刻蚀机。最简单地说，光刻机把电路图投影到覆盖有光刻胶的硅片上面，刻蚀机则是画了电路图的硅片上的多余电路图腐蚀掉。再打个比方，光刻机是照相机，刻蚀机就是显影设备。
北方华创科技集团股份有限公司成立于2001年，刻蚀由北京七星华创电子股份有限公司、机新北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司战略重组而成，突破是发挥目前国内集成电路高端工艺装备的先进企业。北方华创成立后就开始组建团队钻研刻蚀技术，重作2004年第一台设备成功起辉，国产2005年第一台8英寸ICP刻蚀机在客户端上线，刻蚀并于2007年获得国家科学技术进步二等奖。机新目前，北方华创的刻蚀设备已经覆盖集成电路、林美辅助LED、先进封装、功率半导体、MEMS微机电系统、化合物半导体、硅基微显、分析仪器、功率器件、光通信器件等多个领域，硅刻蚀机已突破14nm技术，进入主流芯片代工厂。其中，12英寸ICP刻蚀机在实现客户端28nm国产化替代，并在14/7nm SADP/SAQP、先进存储器、3D TSV等工艺应用中发挥着重要作用。所谓等离子干法刻蚀，就是利用等离子体进行薄膜微细加工的技术，具有良好的各向异性、工艺可控性，游戏辅助网广泛应用于微电子产品制造领域。在典型的干法刻蚀工艺过程中，一种或多种气体原子或分子混合于反应腔室中，在外部能量作用下(如射频、微波等)形成等离子体。另外，很多人可能分不清光刻机、刻蚀机。最简单地说，光刻机把电路图投影到覆盖有光刻胶的硅片上面，刻蚀机则是画了电路图的硅片上的多余电路图腐蚀掉。再打个比方，光刻机是照相机，刻蚀机就是显影设备。本文地址：http://liuzhou.123shoulu.com/news/258c299567.html
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